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    型號:
    JK-CH600190-XRD光學冷熱臺

    描述:JK-CH600190-XRD光學冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式,提供-190~600℃(選型)或RT~1000℃(選型)溫度范圍內的氣氛/真空測試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究,適配現有各種X-射線衍射儀(布魯克、賽默飛、理學等)。

    • 廠商性質

      生產廠家
    • 更新時間

      2025-04-21
    • 訪問量

      1344
    詳細介紹
    品牌其他品牌產地類別國產
    應用領域環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合

    JK-CH600190-XRD光學冷熱臺

    638405667488101468105.jpg

    638405667489663894808.jpg 

    JK-XRD原位冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式,提供-190~600℃(選型)或RT~1000℃(選型)溫度范圍內的氣氛/真空測試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究,適配現有各種X-射線衍射儀(布魯克、賽默飛、理學等)。

    產品需要與溫度控制器、致冷控制器(選配)配套使用,配套的上位機溫控軟件方便進行溫度設置及采集,提供的Labview Vis方便客戶進行定制化編程。

    光學冷熱臺產品特點:

    溫度范圍-190~600℃(選型)/RT~1000℃(選型)

    溫度穩(wěn)定性±0.1℃(<600℃)±1℃(>600℃)

    衍射角0~164°

    X射線視窗Kapton膜

    支持反射/透射模式

    密腔室設計,可升級真空腔室(10^(-3) mBar)

    可更換上蓋,作為普通冷熱臺使用

    可調節(jié)高度,滿足不同厚度樣品測試更換上蓋,可用作光學冷熱臺,實現一機多用

    詳細參數一覽表:

    XRD原位冷熱臺

    JK-CH600190XV

    JK-H1200XV

    溫控模塊

    冷熱方式

    液氮致冷,電阻加熱

    電阻加熱

    溫控范圍

    -190~600℃ *

    RT~1200℃ *

    溫度穩(wěn)定性

    ±0.1℃(<600℃),±1℃(>600℃)*

    溫度分辨率

    0.1℃

    升降溫速率

    0~30℃/min(可定點 / 程序段控溫)

    溫控方式

    PID

    溫度傳感器

    PT100 

    熱電偶

    光學特性

    光路

    反射 *

    X射線透射膜

    Kapton膜

    結構特性

    樣品臺尺寸

    23×23mm *

    12x12mm *

    樣品臺材質

    銀質 *

    陶瓷 *

    外形尺寸

    100×100×73mm *

    腔室

    真空

    外殼冷卻

    循環(huán)水

    基本配置

    XRD原位冷熱臺x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1(低溫配置)、液氮罐x1(低溫配置)、定制支架x1、溫控軟件x1、循環(huán)水系統(tǒng)x1、連接管路若干

    選配

    電腦主機/定制溫控軟件/定制光學蓋板

    備注

    以上均為默認參數    * 為可定制項

    其他可選型號

    CH400-100-X(-100~400℃)

    產品應用:

    搭配理學X射線衍射儀 ↓

    搭配理學X射線衍射儀.jpg

     

    搭配賽默飛X射線衍射儀 ↓

    搭配賽默飛X射線衍射儀.jpg 

    搭配布魯克X射線衍射儀 ↓

    搭配布魯克X射線衍射儀.jpg

     

     
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