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    型號:
    HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

    描述:HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術,可實現1-10片樣品同時進行,可實現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統,可達到的溫場均勻性,對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產起到重要作用。

    主要應用領域:

    快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RT

    • 廠商性質

      生產廠家
    • 更新時間

      2025-04-21
    • 訪問量

      1595
    詳細介紹
    品牌Microtrac MRB/拜爾產地類別國產
    應用領域電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,電氣

    HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

      

    HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術,可實現1-10片樣品同時進行,可實現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統,可達到的溫場均勻性,對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產起到重要作用。

    主要應用領域:

    快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

    金屬合金;

    熱氧化處理;

    化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

    太陽能電池片退火;高溫退火;

    高溫擴散。

    產品特點

    ● 快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達50 ℃/s,特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率,特定條件下可達30 ℃/s。

    ● 精確控溫: 采用工業級溫控器進行PID精確控溫,目標溫度與設定溫度曲線一致性高,可實現室溫至1200 ℃的溫度精確控制。

    ● 適應多種工藝環境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理(氮氣、氬氣等)。同時,通過選配真空泵,可以在真空條件下進行退火,最高真空度可達10-5Pa。

    ● 配備觀察窗口: 通過觀察窗口,可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時,可以結合相關測試方法進行原位測試分析。

    ● 超高安全系數: 采用爐壁超溫報警系統和冷卻水流量報警系統,保障儀器使用安全。

    ● 售后服務:,能快速反應客戶售后需求。



    最大樣品尺寸

    4英寸(直徑20mm)

    控溫范圍

    RT~1200

    升溫速率(max)

    50℃/s

    高溫段降溫速率(max)

    600℃/min

    溫度均勻性

    ≦1%

    控溫精度

    ±0.1℃

    氣體流量

    標配1路,可擴展至多路

    放樣管徑

    Ф210mm*320mm

    放樣數量

              4-10個

    真空度

       真空度可以達到10-5

        控制方式

    支持真空、氧化、還原、惰性氣體等工藝氣氛,也可設置通過軟件控制真空及通氣時間



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