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    型號:
    WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

    描述:晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,其形狀為圓形;晶圓高溫測試是集成電路行業一道重要制程,通過嚴格的高溫測試可以預先剔除不良芯片,降低后續高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設計的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度,要求整個吸盤表面各點的溫度控制在設定溫度&#177;1℃的范圍內,最大可以達到&#177;0.03℃,是目前研究晶圓半導體重要輔助工具。

    • 廠商性質

      生產廠家
    • 更新時間

      2025-04-21
    • 訪問量

      1515
    詳細介紹
    品牌其他品牌產地類別國產
    應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,航空航天,汽車及零部件,電氣

    WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

    關鍵詞:晶圓,均勻,6寸


    晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,其形狀為圓形;晶圓高溫測試是集成電路行業一道重要制程,通過嚴格的高溫測試可以預先剔除不良芯片,降低后續高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設計的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度,要求整個吸盤表面各點的溫度控制在設定溫度±1℃的范圍內,最大可以達到±0.03℃,是目前研究晶圓半導體重要輔助工具。

    主要技術參數;

    1、溫度:室溫-200℃,650℃,1000℃,

    2、加熱速率:40/min,

    3、加熱臺尺寸:6寸,8寸,12寸等可以定制

    4、控溫精度:±

    5、加熱溫度均勻度允許誤差:±1 

    6、加熱臺需可抗壓:100KN

    7、可配合各種電學測試設備進行電學數據功能采集

    8、表面處理:鍍膜,鍍金或是黑礬石

    9、熱臺材質:不銹鋼或銅

    10、可以配合各種電學測試系統及探針測試



                   6寸晶圓在不同溫度下均勻性



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