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2021-08-02
+2017-09-06
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JKWDR-200型科研級溫等靜壓機是一款技術成熟的溫等靜壓機產品，高壓腔采用性能優良的3Cr13 不銹鋼鍛件并探傷，設計數據參數，再用電腦輔助設計軟件進行模擬受力分析校驗，理論數據結合經驗數據敲定最終設計方案。確保設計的科學、合理、準確； 是高等院校，研究機構和生產單位的重要設備。
PVDF（聚偏二氟乙烯）薄膜的極化處理是賦予其壓電、鐵電等功能特性的關鍵步驟，極化裝置的設計需滿足高壓電場、溫度控制等條件，以促使薄膜內部偶極子定向排列。以下是 PVDF 薄膜極化裝置的核心組成、工作原理及關鍵參數的詳細說明：
JKZC-ST200型小型金剛石線切割機專為材料研究人員設計，用于脆性材料分析樣品的精密切割，例如晶體、陶瓷、玻璃、耐火材料、巖樣、礦樣、建筑材料、金屬、塑料、PCB 等， 尤其適合于超薄樣品的精密切割，最薄的樣品厚度可以達到 0.1 毫米。產品已經通過 CE 認證，遠銷世界各地的研究院所、大專院校、大企業的研究部門以及與材料分析有關的廣大中小企業。
小型程控蒸發鍍膜儀JKZC-DM1700是一款小型臺式程序控溫蒸發鍍膜儀，可以設定程序，精確控制溫度200℃～1500℃（或者1200℃～1700℃），樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
JKZC-YP200型32工多路壓片機是一款針對于同時壓制32個樣品和對32個樣品進行退模，大大提高了實驗效率。用特定的模具可以壓制成各種各樣的片,柱及異型體,組合體等進行科學研究，應用非常廣泛,使用簡單、方便、可靠。目前是國內高等院校進行自行科學制樣研究的重要輔助工具。
JKZC-STC600高 真空雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄 膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄 膜等。JKZC-STC600 雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
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